一種光刻裝置及曝光方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202110067118.6 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112835269A | 公開（公告）日 | 2021-05-25 |
| 申請公布號 | CN112835269A | 申請公布日 | 2021-05-25 |
| 分類號 | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 李艷麗;伍強(qiáng) | 申請（專利權(quán)）人 | 上海集成電路裝備材料產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新中心有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海天辰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 吳世華;尹一凡 |
| 地址 | 201800上海市嘉定區(qū)葉城路1288號6幢JT2216室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種光刻裝置，包括對應(yīng)分設(shè)于測量工位和曝光工位下方的兩個短程臺，所述兩個短程臺分別設(shè)于長程臺的兩端；通過所述長程臺的水平旋轉(zhuǎn)，實現(xiàn)兩個短程臺在所述測量工位和曝光工位之間的位置交換；所述長程臺上固定非接觸式電容傳感器的一端，所述非接觸式電容傳感器的另一端分別固定在所述短程臺上；根據(jù)非接觸式電容傳感器的電容值變化信息對短程臺進(jìn)行位置調(diào)整，確保旋轉(zhuǎn)之后的短程臺與長程臺之間沒有發(fā)生偏移。本發(fā)明中光刻裝置可以確保旋轉(zhuǎn)之后的短程臺相對長程臺的位置無偏差。?? |
