一種集成光學復(fù)合基板
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010158416.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113381297A | 公開(公告)日 | 2021-09-10 |
申請公布號 | CN113381297A | 申請公布日 | 2021-09-10 |
分類號 | H01S5/227(2006.01)I;H01S5/183(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張秀全;朱厚彬;李真宇;薛海蛟;李洋洋;張濤 | 申請(專利權(quán))人 | 濟南晶正電子科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京弘權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 逯長明;許偉群 |
地址 | 250100山東省濟南市高新區(qū)港興三路北段1號濟南藥谷研發(fā)平臺1號樓B1806 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請?zhí)峁┮环N集成光學復(fù)合基板,所述集成光學復(fù)合基板包括:垂直腔面發(fā)射激光器(1)以及覆蓋于所述垂直腔面發(fā)射激光器頂面上的光調(diào)制層(2),在所述垂直腔面發(fā)射激光器(1)的頂部開設(shè)貫穿頂面的出光孔(3),在所述出光孔(3)內(nèi)填充有光傳輸層(4),其中,由所述垂直腔面發(fā)射激光器(1)出射的光在光調(diào)制層(2)中入射角的角度為目標預(yù)設(shè)角度,從而直接在光調(diào)制層內(nèi)對入射光進行調(diào)制,進而免于增加額外光學器件,降低光學系統(tǒng)的復(fù)雜程度,提高光利用率,減小光學系統(tǒng)的體積。 |
