一種深紫外線發(fā)光二極管及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911412342.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN111129249A | 公開(公告)日 | 2021-08-10 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN111129249A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-10 |
分類號(hào) | H01L33/38;H01L33/40 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張麗;劉亞柱;齊勝利;吳化勝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 合肥彩虹藍(lán)光科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 王華英 |
地址 | 230011 安徽省合肥市合肥新站區(qū)工業(yè)園內(nèi) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種深紫外線發(fā)光二極管及其制備方法,涉及半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域。所述深紫外線發(fā)光二極管包括:基板,設(shè)置在基板上的N型半導(dǎo)體層、發(fā)光層、P型半導(dǎo)體層;連接在N型半導(dǎo)體層上的第一電極墊;連接在P型半導(dǎo)體層上的第二電極墊;其中第一電極墊包含金屬多層交替結(jié)構(gòu)的歐姆電極。本發(fā)明通過設(shè)置金屬多層交替結(jié)構(gòu)的歐姆電極,并提供新的臺(tái)面刻蝕工藝,解決了傳統(tǒng)工藝歐姆電極接觸電阻高、耐高溫性差、易老化、外觀粗糙等問題。 |
