一種隔離槽的制造方法及其應用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910400487.5 申請日 -
公開（公告）號 CN110112264B 公開（公告）日 2020-12-18
申請公布號 CN110112264B 申請公布日 2020-12-18
分類號 H01L33/00;H01L33/20;H01L33/38 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 呂振興;李鑫鑫;劉亞柱;王曉燕;齊勝利 申請（專利權）人 合肥彩虹藍光科技有限公司
代理機構 上海光華專利事務所（普通合伙） 代理人 合肥彩虹藍光科技有限公司
地址 230011 安徽省合肥市合肥新站區(qū)工業(yè)園內(nèi)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提出一種隔離槽的制造方法及其應用，包括：提供一襯底；形成外延結(jié)構于所述襯底上；通過多次曝光形成圖案化光阻層于所述外延結(jié)構上；移除部分所述外延結(jié)構，形成隔離槽；所述隔離槽暴露所述襯底；其中，進行多次曝光時，第二次曝光時光罩與光阻層之間的距離大于第一次曝光時光罩與光阻層之間的距離。本發(fā)明提出的隔離槽的制造方法能夠提供高壓發(fā)光二極管芯片的產(chǎn)品良率。