一種橫向鍺探測(cè)器結(jié)構(gòu)及制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201810954972.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN109119500A | 公開(kāi)(公告)日 | 2019-01-01 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN109119500A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-01-01 |
分類號(hào) | H01L31/0288;H01L31/0352;H01L31/103;H01L31/18 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 陳昌華;魏江鑌;仇超;柏艷飛;甘甫烷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 南通賽勒光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海申新律師事務(wù)所 | 代理人 | 南通賽勒光電科技有限公司 |
地址 | 226000 江蘇省南通市蘇通科技產(chǎn)業(yè)園1088號(hào)江成研發(fā)園內(nèi)4號(hào)樓北樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)一種橫向鍺探測(cè)器結(jié)構(gòu),其中,橫向鍺探測(cè)器結(jié)構(gòu)為橫向光電二極管結(jié)構(gòu),包括硅襯底;硅氧化層沉積于硅襯底的上表面;硅氧化層上包括頂層硅,頂層硅的一側(cè)形成第一摻雜區(qū)域,于第一摻雜區(qū)域的上表面形成第一電極;頂層硅的上表面形成耦合層,于耦合層背向第一電極的一側(cè)形成延伸部,于延伸部形成第二摻雜區(qū)域,于第二摻雜區(qū)域形成第二電極;氮化硅波導(dǎo)為錐形結(jié)構(gòu),形成于多晶硅層的上方。有益效果:通過(guò)改造鍺層結(jié)構(gòu),對(duì)頂層硅及鍺層分別進(jìn)行摻雜,增強(qiáng)了氮化硅波導(dǎo)耦合至鍺探測(cè)器的耦合效率,實(shí)現(xiàn)了光復(fù)用器、光解復(fù)用器與鍺探測(cè)器的有效集成,還應(yīng)用于高光功率及高帶寬的光電探測(cè)領(lǐng)域中。 |
