一種利用原子層沉積裝置制備氟化石墨烯的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201310056762.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN103086374B 公開（公告）日 2014-07-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN103086374B 申請(qǐng)公布日 2014-07-23
分類號(hào) C01B31/04(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 林時(shí)勝;董策舟 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 杭州格藍(lán)豐科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 代理人 杭州格藍(lán)豐納米科技有限公司;浙江大學(xué)
地址 310027 浙江省杭州市西湖區(qū)西溪路525號(hào)C樓428室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開的利用原子層沉積裝置制備氟化石墨烯的方法，主要包括將石墨烯通過轉(zhuǎn)移基底放置在原子層沉積裝置的支撐架上，利用玻璃金屬轉(zhuǎn)換件內(nèi)氟化劑的蒸發(fā)進(jìn)入原子層沉積裝置的腔體，并使得石墨烯吸附氟原子，實(shí)現(xiàn)氟化石墨烯的可控制備。該方法工藝流程完全可控，操作簡(jiǎn)單方便，特別適合于氟化石墨烯的大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)，制備的氟化石墨烯在納米電子器件、潤(rùn)滑材料、大容量鋰電池等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。