一種無上電極水平電鍍裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020349607.1 申請日 -
公開(公告)號 CN212077175U 公開(公告)日 2020-12-04
申請公布號 CN212077175U 申請公布日 2020-12-04
分類號 C25D7/12(2006.01)I 分類 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 鄧曉帆;李中天;姚宇 申請(專利權(quán))人 蘇州太陽井新能源有限公司
代理機構(gòu) 南京縱橫知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 董建林
地址 215127江蘇省蘇州市吳中區(qū)甪直鎮(zhèn)凌港路128號富民一區(qū)C棟4層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種無上電極水平電鍍裝置,包括若干個等高設(shè)置的電解質(zhì)溶液槽,待電鍍基片位于電解質(zhì)溶液槽上面與且下表面與電解質(zhì)溶液接觸,待電鍍基片下表面分為待電鍍區(qū)域及非電鍍區(qū)域,待電鍍區(qū)域表面為導(dǎo)電材料,非電鍍區(qū)域表面為不導(dǎo)電材料,待電鍍基片下表面電相連有水平傳輸裝置和陰極導(dǎo)電裝置,水平傳輸裝置和陰極導(dǎo)電裝置與電解質(zhì)溶液槽間隔設(shè)置,水平傳輸裝置帶動待電鍍基片水平運動,電解質(zhì)溶液內(nèi)設(shè)置有金屬陽極,陰極導(dǎo)電裝置與金屬陽極分別與外置偏壓電源的負(fù)極和正極相連。本實用新型提供的一種無上電極水平電鍍裝置,能夠能夠在待電鍍基片表面形成均勻性好、可靠性高的金屬沉積且不易造成待電鍍基片或其表面損傷。??