一種晶片清洗裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022758267.0 申請日 -
公開(公告)號 CN213278031U 公開(公告)日 2021-05-25
申請公布號 CN213278031U 申請公布日 2021-05-25
分類號 H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 陳康;徐興華;鮑旭偉;唐多 申請(專利權(quán))人 金華市創(chuàng)捷電子有限公司
代理機構(gòu) 金華市悅誠君創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 代理人 余威
地址 321000浙江省金華市婺城區(qū)仙華南街777號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種晶片清洗裝置,包括機體,所述機體的頂部外壁設(shè)置有進料口,進料口的一側(cè)內(nèi)壁設(shè)置有兩個導(dǎo)向輥;所述機體的頂部內(nèi)壁設(shè)置有兩個導(dǎo)向軟板;所述機體的一側(cè)外壁通過頂板固定有電機,機體的一側(cè)內(nèi)壁設(shè)置有兩個滾動輪,兩個滾動輪的外壁設(shè)置有同一個傳送帶,傳送帶的外壁設(shè)置有兩個固定座,兩個固定座的一側(cè)內(nèi)壁均設(shè)置有四個以上的彈簧,四個以上的彈簧另一端均設(shè)置有同一個夾持座,兩個夾持座的內(nèi)壁均設(shè)置有四個以上的橡膠輥;所述機體的一側(cè)內(nèi)壁設(shè)置有清洗結(jié)構(gòu);所述清洗結(jié)構(gòu)包括兩個液體箱和兩個清洗組件。本實用新型晶片在傳送帶的不斷輸送下,可一直不斷投料進行清潔處理工作,有效的提高了清潔晶片的效率。??