蒸鍍?cè)O(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023038319.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214327861U 公開（公告）日 2021-10-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN214327861U 申請(qǐng)公布日 2021-10-01
分類號(hào) C23C14/24（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 楊然翔;徐瑞林;陳旋宇;王懷超 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 重慶康佳光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 代理人 霍文娟
地址 402760重慶市璧山區(qū)璧泉街道鎢山路69號(hào)（1號(hào)廠房）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種蒸鍍?cè)O(shè)備，該蒸鍍?cè)O(shè)備包括殼體、加熱設(shè)備、承載結(jié)構(gòu)和阻擋結(jié)構(gòu)，其中，殼體具有蒸鍍腔；加熱設(shè)備位于蒸鍍腔內(nèi)，加熱設(shè)備包括蒸汽出口，加熱設(shè)備用于加熱材料形成蒸汽；承載結(jié)構(gòu)位于蒸鍍腔內(nèi)且位于加熱設(shè)備的一側(cè)，承載結(jié)構(gòu)用于承載晶圓；阻擋結(jié)構(gòu)包括承載件和位于承載件上的第一晶振片，阻擋結(jié)構(gòu)具有第一位置和第二位置，蒸鍍開始前，阻擋結(jié)構(gòu)位于第一位置以遮擋蒸汽出口，且第一晶振片位于承載件的朝向加熱設(shè)備的一側(cè)，在通過(guò)第一晶振片檢測(cè)到蒸鍍處于穩(wěn)定狀態(tài)時(shí)，阻擋結(jié)構(gòu)從第一位置轉(zhuǎn)變?yōu)榈诙恢靡员茏屨羝隹?。該蒸鍍?cè)O(shè)備實(shí)現(xiàn)了蒸鍍初期對(duì)蒸鍍穩(wěn)定情況的監(jiān)控，保證了經(jīng)阻擋結(jié)構(gòu)避讓后沉積到晶圓表面上的材料較為均勻。