一種蒸鍍坩鍋

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010514742.1 申請日 -
公開（公告）號 CN113481472A 公開（公告）日 2021-10-08
申請公布號 CN113481472A 申請公布日 2021-10-08
分類號 C23C14/30（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王沛占;朱德盼;楊然翔;伍凱義;馮中山 申請（專利權）人 重慶康佳光電科技有限公司
代理機構 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 代理人 熊永強
地址 402760重慶市璧山區(qū)璧泉街道鎢山路69號（1號廠房）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及化工儀器技術領域，具體涉及一種蒸鍍坩鍋，包括：坩堝主體，和位于所述坩堝主體內(nèi)的升降裝置；所述升降裝置包括升降托盤和彈性器件，所述升降托盤滑動設置與所述坩堝主體內(nèi)，且平行于所述坩堝主體底面，所述升降托盤邊緣與所述坩堝主體內(nèi)壁緊密配合；所述彈性器件一端與所述升降托盤連接，另一端與所述坩堝主體底部連接。本發(fā)明帶升降裝置的蒸鍍坩堝，隨著膜料的消耗，彈性器件推動升降托盤不斷上升，保持膜料蒸發(fā)的部分始終保持在坩堝頂部，膜料基本被完全消耗，且整個蒸鍍過程，電子槍不需調(diào)整偏轉(zhuǎn)角度，功率不會增加。且本發(fā)明所述的坩堝，整個成膜過程膜料和基板距離保持不變，保證了成膜的均一性。