一種改進的低溫真空爐工件托盤
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201921849553.9 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN211084790U | 公開（公告）日 | 2020-07-24 |
| 申請公布號 | CN211084790U | 申請公布日 | 2020-07-24 |
| 分類號 | F27B5/05(2006.01)I | 分類 | 爐；窯；烘烤爐；蒸餾爐〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 周琪;葉祥 | 申請（專利權）人 | 上海三井光中真空設備股份有限公司 |
| 代理機構 | 上?；ロ槍＠硎聞账ㄆ胀ê匣铮?/td> | 代理人 | 成秋麗 |
| 地址 | 201708 上海市青浦區(qū)華新鎮(zhèn)華強街675號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型公開了一種改進的低溫真空爐工件托盤，涉及真空爐工件托盤的技術領域，包括真空爐體、工件托盤、冷卻水管和連接法蘭，冷卻水管為一體式結構，冷卻水管包括依次相連通的進水管、冷卻管和出水管，工件托盤的底部布置有冷卻管，進水管和出水管均貫穿真空爐體，進水管和出水管均通過連接法蘭與真空爐體密封連接。本實用新型的改進的低溫真空爐工件托盤通過冷卻水管對工件托盤先進行冷卻，再讓工件托盤通過熱傳遞對產品進行冷卻，顯著加快產品的冷卻速度。?? |
