一種純鈮腔內(nèi)表面鍍鈮三錫薄膜的方法及真空爐
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911314280.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111074208B | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-04-06 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111074208B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-06 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/16(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 劉佰奇;董超;沙鵬;翟紀(jì)元 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 上海三井光中真空設(shè)備股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京君尚知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 司立彬 |
| 地址 | 100049北京市石景山區(qū)100049 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種純鈮腔內(nèi)表面鍍鈮三錫薄膜的方法及真空爐。本發(fā)明的真空爐特征在于，包括由外真空系統(tǒng)與內(nèi)真空系統(tǒng)構(gòu)成的雙真空結(jié)構(gòu)；其中，外真空系統(tǒng)內(nèi)設(shè)有用于對(duì)內(nèi)真空系統(tǒng)加熱的加熱器以及用于測(cè)量?jī)?nèi)真空系統(tǒng)設(shè)定區(qū)域溫度的測(cè)溫探頭；所述內(nèi)真空系統(tǒng)內(nèi)設(shè)有一鈮腔吊裝裝置，該旋轉(zhuǎn)吊裝裝置用于連接待鍍膜的鈮腔和錫坩堝，并通過(guò)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)鈮腔進(jìn)行循環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)。通過(guò)該真空爐，可在純鈮腔內(nèi)鍍一層純凈、完全覆蓋、均勻分布的鈮三錫薄膜，從而實(shí)現(xiàn)鈮三錫在超導(dǎo)腔上的應(yīng)用。?? |
