一種制備銅銦鎵硒薄膜的蒸發(fā)系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910741870.7 申請日 -
公開（公告）號 CN110512174A 公開（公告）日 2019-11-29
申請公布號 CN110512174A 申請公布日 2019-11-29
分類號 C23C14/24;C23C14/06 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳立國 申請（專利權(quán)）人 北京知虹科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 518000 廣東省深圳市前海深港合作區(qū)前灣一路1號A棟201室(入駐深圳市前海商務秘書有限公司)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種制備銅銦鎵硒薄膜的蒸發(fā)系統(tǒng)，包括真空腔室和若干個蒸發(fā)單元，每一個所述的蒸發(fā)單元的底部均設有可調(diào)節(jié)高度的支撐單元，所述支撐單元支撐在所述真空腔室的內(nèi)底面，所述若干個蒸發(fā)單元按照鍍膜工藝流程依次設置在所述真空腔室內(nèi)，且每一個蒸發(fā)單元與基材的距離均相同。該蒸發(fā)系統(tǒng)通過在一個真空腔室內(nèi)按照鍍膜工藝流程依次設置若干個高度可調(diào)的蒸發(fā)單元，通過調(diào)節(jié)每一個蒸發(fā)單元的高度，使得每一個蒸發(fā)單元與基材的距離均相同，從而保證了基材蒸鍍的效果；同時，可根據(jù)基材形狀的變化而調(diào)整不同蒸發(fā)單元的高度，使得基材在本身重力作用下彎曲時，也能夠保證各個蒸發(fā)單元與基材的距離保持相同。