一種半導體刻蝕設(shè)備的故障檢測裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202021081790.8 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN213022912U | 公開（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申請公布號 | CN213022912U | 申請公布日 | 2021-04-20 |
| 分類號 | G01N21/956(2006.01)I | 分類 | 測量；測試; |
| 發(fā)明人 | 廖海濤 | 申請（專利權(quán)）人 | 江蘇邑文微電子科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 北京商專潤文專利代理事務所（普通合伙） | 代理人 | 朱建 |
| 地址 | 226000江蘇省南通市如東縣掘港街道金山路1號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型公開了一種半導體刻蝕設(shè)備的故障檢測裝置，涉及到半導體刻蝕設(shè)備用故障檢測領(lǐng)域，包括檢測臺，所述檢測臺的頂側(cè)固定安裝有兩個支撐柱，兩個支撐柱的頂側(cè)均開設(shè)有伸縮槽，兩個伸縮槽內(nèi)均滑動安裝有伸縮柱，兩個伸縮柱的頂側(cè)分別延伸至兩個伸縮槽外并均固定安裝有橫桿。本實用新型結(jié)構(gòu)合理，可通過滑動控制塊來帶動兩個激光發(fā)射筆水平移動，從而可以同時對兩個半導體進行對比采集數(shù)據(jù)，采集到的數(shù)據(jù)通過處理中心進行分析對比，最終可自動得出半導體刻蝕設(shè)備出現(xiàn)故障的位置，不再需要人工肉眼來進行觀察對比，可有效避免人工視覺誤差而導致誤判故障，提高了檢測的速度和準確性。?? |
