一種連續(xù)式半導(dǎo)體蝕刻設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | 2020210831248 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212412002U | 公開（公告）日 | 2021-01-26 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212412002U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-01-26 |
| 分類號(hào) | H01L21/302(2006.01)I; | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 廖海濤 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 江蘇邑文微電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京商專潤(rùn)文專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 朱建 |
| 地址 | 226000江蘇省南通市如東縣掘港街道金山路1號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種連續(xù)式半導(dǎo)體蝕刻設(shè)備，涉及到半導(dǎo)體蝕刻設(shè)備領(lǐng)域，包括裝置本體，裝置本體的一側(cè)設(shè)有電氣控制柜、裝置本體上設(shè)有裝置門，裝置門上設(shè)有玻璃，裝置本體的底側(cè)內(nèi)壁設(shè)有廢液收集盒，裝置本體的底側(cè)內(nèi)壁設(shè)有加熱器。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理,通過(guò)設(shè)置加熱器和攪拌器，使得蝕刻液溫度保持合適溫度和蝕刻液攪拌均勻保持合適濃度，提高了蝕刻的速率，單線設(shè)置兩個(gè)半導(dǎo)體蝕刻，提高了蝕刻速度，通過(guò)設(shè)置縱板和擋板，避免蝕刻液飛濺到其它半導(dǎo)體上，通過(guò)設(shè)置加熱箱和風(fēng)扇，對(duì)半導(dǎo)體表面進(jìn)行主吹干，通過(guò)設(shè)置空氣濾清器，過(guò)濾空氣中的雜質(zhì)，避免半導(dǎo)體被空氣中的雜質(zhì)污染而影響使用功能。?? |
