半導(dǎo)體等離子刻蝕腔體等離子體聚焦環(huán)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | 2020210582156 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212392208U | 公開（公告）日 | 2021-01-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212392208U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-01-22 |
| 分類號(hào) | H01J37/32(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 廖海濤 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 江蘇邑文微電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京商專潤(rùn)文專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 邢若蘭 |
| 地址 | 226400江蘇省南通市如東縣掘港街道金山路1號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了半導(dǎo)體等離子刻蝕腔體等離子體聚焦環(huán)，包括固定環(huán)形框架，所述固定環(huán)形框架的內(nèi)側(cè)面開設(shè)有臺(tái)階槽，所述臺(tái)階槽的內(nèi)側(cè)設(shè)置有聚光環(huán)本體，所述臺(tái)階槽的內(nèi)側(cè)面且位于聚光環(huán)本體的下方固定連接有內(nèi)側(cè)板，所述內(nèi)側(cè)板的外側(cè)面與臺(tái)階槽的側(cè)面組成一個(gè)開口的密封室，所述密封室的內(nèi)部且靠近開口處設(shè)置有環(huán)形堵蓋，所述聚光環(huán)本體的底面固定連接有多個(gè)連接桿。本實(shí)用新型，通過(guò)設(shè)置有兩組框架結(jié)構(gòu)，且在兩組框架結(jié)構(gòu)之間設(shè)置有伸縮和連接件結(jié)構(gòu)，能夠便于調(diào)節(jié)聚光環(huán)本體的高度，通過(guò)在聚光環(huán)本體的底面固定連接有連接桿，連接桿的底部延伸至密封室的內(nèi)部固定連接有懸浮的浮球，能夠保證調(diào)節(jié)的時(shí)候聚光環(huán)本體水平。?? |
