一種半導體制造用濕法清洗設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921076056.X 申請日 -
公開(公告)號 CN211555831U 公開(公告)日 2020-09-22
申請公布號 CN211555831U 申請公布日 2020-09-22
分類號 H01L21/67(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 廖海濤 申請(專利權(quán))人 江蘇邑文微電子科技有限公司
代理機構(gòu) 北京商專永信知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 江蘇邑文微電子科技有限公司
地址 226000江蘇省南通市如東縣掘港街道金山路1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種半導體制造用濕法清洗設(shè)備,涉及半導體技術(shù)領(lǐng)域,包括機體,所述機體的一側(cè)固定連接有旋轉(zhuǎn)盤控制按鈕,所述機體的一側(cè)固定連接有噴水灑控制按鈕,所述機體的一側(cè)固定連接有風扇控制按鈕,所述機體的一側(cè)固定連接有出水管,所述機體內(nèi)壁的頂部固定連接有噴水灑。該半導體制造用濕法清洗設(shè)備,通過在機體內(nèi)壁固定連接了立柱,以及旋轉(zhuǎn)盤、放置架和活動卡扣之間的配合設(shè)置,極大的提高了清洗吹干的效果,解決了現(xiàn)有清洗吹干效果不理想的情況。該半導體制造用濕法清洗設(shè)備,通過在機體一側(cè)固定連接了旋轉(zhuǎn)盤控制按鈕、噴水灑控制按鈕、風扇控制按鈕,解決了現(xiàn)有的清洗吹干過程比較繁瑣的情況。??