一種機(jī)械化學(xué)的研磨工裝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120549944.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214490145U 公開（公告）日 2021-10-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN214490145U 申請(qǐng)公布日 2021-10-26
分類號(hào) B24B37/30（2012.01）I;B24B37/20（2012.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 姚力軍;潘杰;惠宏業(yè);王學(xué)澤;楊加明 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海江豐平芯電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京遠(yuǎn)智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王巖
地址 201400上海市奉賢區(qū)奉浦工業(yè)區(qū)奉浦大道111號(hào)5樓2427室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種機(jī)械化學(xué)的研磨工裝，包括真空吸盤、環(huán)形限位結(jié)構(gòu)和研磨墊；環(huán)形限位結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述真空吸盤上，以中心線為基準(zhǔn)；環(huán)形限位結(jié)構(gòu)的外徑等于真空吸盤的外徑；研磨墊的設(shè)置于環(huán)形限位結(jié)構(gòu)內(nèi)；研磨墊的直徑等于環(huán)形限位結(jié)構(gòu)的內(nèi)徑；研磨墊對(duì)應(yīng)的真空吸盤的表面上設(shè)置有第一凹槽、第二凹槽和第三凹槽；第一凹槽的直徑＜研磨墊的直徑；第二凹槽的直徑＜第一凹槽的直徑；第三凹槽的直徑＜第二凹槽的直徑；第一凹槽的深度＜第二凹槽的深度＜第三凹槽的深度；第二凹槽的側(cè)壁上設(shè)置有滾花花紋。解決了在研磨墊在機(jī)械化學(xué)研磨中存在的偏心問題，同時(shí)也使得研磨得到晶圓表面更加均一，使得晶圓在濺射鍍膜后得到的膜層具有良好的性能。