一種降低光引發(fā)劑金屬離子的裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202123208464.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN216856533U | 公開(公告)日 | 2022-07-01 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN216856533U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-01 |
分類號(hào) | B01F33/81(2022.01)I;B01F31/60(2022.01)I;B01F35/513(2022.01)I;B01D33/03(2006.01)I | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
發(fā)明人 | 譚文博;袁曉冬;張威 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 江西興隆科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南昌賢達(dá)專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 344400江西省撫州市宜黃縣工業(yè)園區(qū)豐厚小區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型涉及光引發(fā)劑技術(shù)領(lǐng)域,且公開了一種降低光引發(fā)劑金屬離子的裝置,解決了現(xiàn)有降低光引發(fā)劑金屬離子的裝置,大多只是通過(guò)攪拌釜將光引發(fā)劑和去離子水混合達(dá)到降低金屬離子的目的,使得光引發(fā)劑去離子效率較低的問(wèn)題,其包括支撐底板,所述支撐底板的頂端一側(cè)分別安裝有操作箱和瀝水箱;通過(guò)設(shè)置有第一彈簧、第二彈簧、第一滑塊和振動(dòng)電機(jī)等各組件,能夠?qū)崿F(xiàn)光引發(fā)劑的振蕩,使得光引發(fā)劑能夠與操作箱內(nèi)的去離子水能夠充分的接觸,進(jìn)而提高光引發(fā)劑的去離子效果,通過(guò)設(shè)置有兩組移動(dòng)塊和兩組掛鉤,以及操作箱和瀝水箱的設(shè)置,能夠在光引發(fā)劑振蕩去離子的同時(shí)實(shí)現(xiàn)對(duì)操作完成的光引發(fā)劑進(jìn)行振蕩瀝水,增加了光引發(fā)劑去離子的效率。 |
