一種圓頂式微波等離子體化學(xué)氣相沉積金剛石膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201310674092.7 申請日 -
公開（公告）號 CN103668127B 公開（公告）日 2015-12-30
申請公布號 CN103668127B 申請公布日 2015-12-30
分類號 C23C16/511(2006.01)I;C23C16/27(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 唐偉忠;蘇靜杰;李義鋒;劉艷青;丁明輝;李小龍;姚鵬麗 申請（專利權(quán)）人 河北普萊斯曼金剛石科技有限公司
代理機構(gòu) 北京金智普華知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 河北普萊斯曼金剛石科技有限公司
地址 050081 河北省石家莊市友誼南大街46號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種圓頂式微波等離子體化學(xué)氣相沉積金剛石膜裝置，適用于高功率微波輸入下高品質(zhì)金剛石膜的快速制備。諧振腔主體由圓頂反射體、金屬薄板反射體、石英環(huán)窗口、圓柱反射體和沉積臺所組成。金屬薄板反射體可以阻擋微波向諧振腔頂部的傳播，使微波更多地聚集于基片上方。沉積臺分為中心沉積臺和邊緣沉積臺兩部分，二者的獨立上下移動功能利于實現(xiàn)等離子體狀態(tài)的快速優(yōu)化。石英環(huán)窗口隱藏于諧振腔壁形成的狹縫間，既可以躲避等離子體的刻蝕，又利于諧振腔真空性能的提高。另外，良好的水冷系統(tǒng)設(shè)計保證了設(shè)備在高功率下運行的安全。諸多的優(yōu)點匯集到一起，使得該圓頂式微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置具備在高功率水平下高速沉積高品質(zhì)金剛石膜的能力。