一種用于微波輸能窗口的多晶金剛石厚膜及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110171912.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112941487A | 公開(公告)日 | 2021-06-11 |
申請公布號 | CN112941487A | 申請公布日 | 2021-06-11 |
分類號 | C23C16/27;C23C16/511;C23C16/52 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 李義鋒;安曉明;姜龍;張雅淋;劉曉晨;葛新崗 | 申請(專利權)人 | 河北普萊斯曼金剛石科技有限公司 |
代理機構 | 石家莊冀科專利商標事務所有限公司 | 代理人 | 孟玉寒 |
地址 | 050081 河北省石家莊市橋西區(qū)友誼南大街46號3號樓319室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種用于微波輸能窗口的多晶金剛石厚膜,所述多晶金剛石厚膜為雙層柱狀晶結構,其包括第一層金剛石膜和第二層金剛石膜,所述第二層金剛石膜生長在所述第一層金剛石膜的形核面上,所述第一層金剛石膜和第二層金剛石膜的生長面位于兩端。本發(fā)明采用分步沉積的方法制備形核面位于多層金剛石厚膜內部、而生長面位于兩端表面的雙層柱狀晶結構,制備的多晶金剛石厚膜具有強度高、介電損耗低、內部缺陷少,生長面抗彎強度高的特點,且制備方法沉積效率高。 |
