一種多弧型帶材真空連續(xù)鍍膜系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010106165.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111197156A | 公開(公告)日 | 2020-05-26 |
申請公布號 | CN111197156A | 申請公布日 | 2020-05-26 |
分類號 | C23C14/56;C23C14/32 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 王殿儒;田玉波;王百湘;程云立;田源 | 申請(專利權(quán))人 | 唐山中土科技發(fā)展有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京修典盛世知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 王殿儒;唐山中土科技發(fā)展有限公司 |
地址 | 100086 北京市海淀區(qū)北三環(huán)西路48號三號樓3B | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種多弧型帶材真空連續(xù)鍍膜系統(tǒng),該鍍膜系統(tǒng)用于卷繞帶材的鍍膜,所述鍍膜系統(tǒng)包括真空室,所述真空室中設(shè)置有入口真空鎖、電子槍、第一導(dǎo)向輪、滾輪、第二導(dǎo)向輪、移動桿、密封板、多弧離子源、第一真空鍍膜倉、第二真空鍍膜倉與出口真空鎖,所述帶材依次穿過所述入口真空鎖、第一導(dǎo)向輪、通氣口、第一真空鍍膜倉或第二真空鍍膜倉、滾輪、通氣口、第二導(dǎo)向輪與出口真空鎖,所述第一真空鍍膜倉與第二真空鍍膜倉交替用于帶材真空鍍膜,從而實現(xiàn)連續(xù)鍍膜。本發(fā)明的多弧型帶材真空連續(xù)鍍膜系統(tǒng)通過兩個真空鍍膜倉交替工作方式以實現(xiàn)真正地真空連續(xù)鍍膜。 |
