一種低電容肖特基二極管的制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201110000638.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN102129988A | 公開(公告)日 | 2011-07-20 |
申請公布號 | CN102129988A | 申請公布日 | 2011-07-20 |
分類號 | H01L21/329(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 楊忠武;朱江 | 申請(專利權(quán))人 | 黑龍江八達通用微電子有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 150078 黑龍江省哈爾濱市開發(fā)區(qū)迎賓路集中區(qū)天平路6號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種低電容肖特基二極管的制造方法,通過氮氣氣氛擴散工藝,在外延層上表面形成雜質(zhì)濃度連續(xù)降低的輕摻雜層。本發(fā)明的低電容肖特基二極管的制造方法,工藝簡單易于生產(chǎn),可對器件的電參數(shù)特性進行進一步優(yōu)化。 |
