一種高透低霧光學基膜用聚酯母料的合成方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110898386.2 申請日 -
公開（公告）號 CN113416393B 公開（公告）日 2022-03-18
申請公布號 CN113416393B 申請公布日 2022-03-18
分類號 C08L67/02（2006.01）I;C08L63/10（2006.01）I;C08L51/08（2006.01）I;C08G63/183（2006.01）I;C08G63/86（2006.01）I;C08G63/87（2006.01）I;C08J3/22（2006.01）I;C08J5/18（2006.01）I 分類 有機高分子化合物；其制備或化學加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 段旻;劉勤學;姚孝平;孔云飛;馬強;楊彩怡 申請（專利權(quán)）人 常州勤邦新材料科技有限公司
代理機構(gòu) 南京勤行知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（普通合伙） 代理人 陳燁
地址 213200江蘇省常州市金壇區(qū)龍湖路9號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及聚酯母粒技術(shù)領域，尤其是一種高透低霧光學基膜用聚酯母料的合成方法，包括以下步驟：1）將100份對苯二甲酸、130份乙二醇和0.001?0.002份醋酸鈉配制成漿料，然后轉(zhuǎn)移至酯化反應釜中進行酯化反應，然后加入0.02?0.05份乙醇銻和對甲苯磺酸的復合催化劑、10?20份第三單體依次進行預縮聚反應和終縮聚反應，在終縮聚反應階段加入0.001?0.002份磷酸三甲酯，2）終縮聚結(jié)束降溫過程中加入光固化單體和光引發(fā)劑，最后將終聚物卸到冷卻池，切片得到聚酯母料；本發(fā)明中的聚酯母料在后續(xù)制備光學基膜的時候，可以通過輻照步驟提高光學基膜的硬度，從而可以降低抗粘連劑的添加，從而降低光學基膜的折射率，得到高透光低霧度的光學基膜。