一種生產(chǎn)泡沫鎳金屬化的濺射陰極靶材結(jié)構(gòu)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN03211969.0 申請日 -
公開（公告）號 CN2615146Y 公開（公告）日 2004-05-12
申請公布號 CN2615146Y 申請公布日 2004-05-12
分類號 C23C14/34;C22C1/08 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王毓民;方彥忠 申請（專利權(quán)）人 沈陽金昌普新材料股份有限公司
代理機構(gòu) 沈陽科威專利代理有限責任公司 代理人 于菲
地址 110179遼寧省沈陽市沈陽渾南開發(fā)區(qū)四季路22號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種生產(chǎn)泡沫鎳金屬化的濺射陰極靶材結(jié)構(gòu)，它包括靶體，在靶體的上面安裝有鎳靶材，其特征在于靶體的上面裝有隔板，隔板與靶體之間裝有密封圈，靶材放在隔板上，由多塊拼接而成，四周裝有壓板，壓板與靶體之間用螺栓固定。由于靶材設(shè)置在蝕刻區(qū)域內(nèi)，在濺射時，周邊的壓板沒有受到蝕刻，所以不用更換，這樣可以節(jié)省大量的鎳材料。其次是靶體與靶材之間裝有隔板，采用了間接水冷的方式，靶材不直接承受冷卻水的壓力，所以對于其致密性和強度的要求都大大降低，因此不僅可以使用軋制的鎳板，同時可以使用鑄造或電解鎳材，使生產(chǎn)的成本得到降低。