一種藍寶石襯底片拋光方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910248636.0 申請日 -
公開（公告）號 CN109807695A 公開（公告）日 2019-05-28
申請公布號 CN109807695A 申請公布日 2019-05-28
分類號 B24B1/00（2006.01）I; C09G1/02（2006.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 徐永亮; 王遼闊; 施海斌; 柳瑞森; 吳魯; 周波 申請（專利權(quán)）人 蘇州恒嘉晶體材料有限公司
代理機構(gòu) 北京弘權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 蘇州恒嘉晶體材料有限公司
地址 215699 江蘇省蘇州市張家港經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)楊舍鎮(zhèn)晨豐公路357號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請?zhí)峁┝艘环N藍寶石襯底片拋光方法，將銅拋后清洗干凈的藍寶石襯底片按照厚度分組，同一組內(nèi)晶片厚度差異在10μm以內(nèi)；提供一個陶瓷盤，陶瓷盤表面平整度在3μm以內(nèi)，用貼蠟機將一組晶片均勻貼在距陶瓷盤邊緣1cm的表面上，蠟冷卻后晶片固定在陶瓷盤上；拋光機下盤表面貼上suba600或suba800的拋光布，將陶瓷盤貼有晶片的一面向下放置在拋光布上，下壓上盤壓緊陶瓷盤并使之跟隨上盤同步轉(zhuǎn)動，下盤與上盤同向轉(zhuǎn)動，同時拋光布表面噴上粒徑大小為80～350nm的的氧化鋁拋光液，氧化鋁拋光液與水的體積配比為1:6到1:15；拋光過程中，可以通過對拋光液冷卻帶走熱量使拋光機下盤盤面溫度控制在30～40℃；拋光結(jié)束后取下陶瓷盤，用毛刷對晶片進行沖水清洗。