一種MEMS原子蒸氣腔室的制備方法及原子蒸氣腔室

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201110164720.8 申請日 -
公開（公告）號 CN102259825B 公開（公告）日 2015-04-08
申請公布號 CN102259825B 申請公布日 2015-04-08
分類號 B81C1/00(2006.01)I;B81C3/00(2006.01)I;B81B3/00(2006.01)I 分類 微觀結(jié)構(gòu)技術(shù)〔7〕;
發(fā)明人 阮勇;馬波;陳碩;尤政 申請（專利權(quán)）人 江蘇智能微系統(tǒng)工業(yè)技術(shù)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 100084 北京市100084信箱82分箱清華大學(xué)專利辦公室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種MEMS原子蒸氣腔室的制備方法及原子蒸氣腔室。腔室采用陽極鍵合技術(shù)，由Pyrex玻璃片-硅片-Pyrex玻璃片鍵合構(gòu)成。Pyrex玻璃片作為腔室的窗口，硅片刻蝕或腐蝕出腔室空間。腔室中放入石蠟封裝的堿金屬銣或銫，同時充入適當(dāng)壓力的緩沖氣體。石蠟作為堿金屬的封裝材料，實(shí)現(xiàn)活潑的堿金屬與環(huán)境中的氧氣、水蒸汽等氧化劑隔離；同時作為腔室的鍍層材料，減緩了Rb或Cs原子與腔壁的碰撞。利用CO2激光器消融石蠟釋放堿金屬，在腔壁上形成均勻的石蠟鍍層。本發(fā)明克服了現(xiàn)場制作方式產(chǎn)生的反應(yīng)殘留物所導(dǎo)致的長期漂移問題，并減緩了Rb或Cs原子與腔壁的碰撞，提高了堿金屬原子共振線寬的對比度。