晶片承載盤與晶片外延設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201980098322.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114097072A | 公開(公告)日 | 2022-02-25 |
申請公布號 | CN114097072A | 申請公布日 | 2022-02-25 |
分類號 | H01L21/683(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉凱;程凱 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州晶湛半導(dǎo)體有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京布瑞知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 秦衛(wèi)中 |
地址 | 215123江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號西北區(qū)20幢517-A室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種晶片承載盤與晶片外延設(shè)備,涉及化學(xué)沉積裝置技術(shù)領(lǐng)域,該晶片承載盤包括盤體和凹槽;在凹槽的槽口邊沿處設(shè)有導(dǎo)流面;其中導(dǎo)流面相對于晶片傾斜設(shè)置,且自凹槽的槽口向槽底方向延伸。該晶片承載盤緩解了晶片邊緣處外延層沉積質(zhì)量差的技術(shù)問題,達(dá)到了提高晶片邊緣外延沉積質(zhì)量的目的。 |
