GaN基半導體結構
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202122239416.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215933615U | 公開(公告)日 | 2022-03-01 |
申請公布號 | CN215933615U | 申請公布日 | 2022-03-01 |
分類號 | H01L29/778(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 程凱 | 申請(專利權)人 | 蘇州晶湛半導體有限公司 |
代理機構 | 北京博思佳知識產權代理有限公司 | 代理人 | 林祥 |
地址 | 215123江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號西北區(qū)20幢517-A室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供了一種GaN基半導體結構,包括:襯底,溝道層與勢壘層,溝道層與勢壘層包括柵極區(qū)域、源極區(qū)域與漏極區(qū)域;位于源極區(qū)域上的源區(qū)N型離子重摻雜,位于漏極區(qū)域上的漏區(qū)N型離子重摻雜層;以及位于柵極區(qū)域上的柵極、位于源區(qū)N型離子重摻雜層上的源極與位于漏區(qū)N型離子重摻雜層上的漏極。根據(jù)本實用新型的實施例,可以增大二維電子氣在源極至溝道,和/或溝道至漏極路徑上的收集面積,從而降低通過電阻。 |
