外延片承載裝置和化學氣相沉積設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122182922.7 申請日 -
公開（公告）號 CN215757732U 公開（公告）日 2022-02-08
申請公布號 CN215757732U 申請公布日 2022-02-08
分類號 C30B25/12（2006.01）I;C30B25/10（2006.01）I;C30B25/16（2006.01）I;H01L21/683（2006.01）I;C30B28/14（2006.01）I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 程凱;劉凱 申請（專利權(quán)）人 蘇州晶湛半導體有限公司
代理機構(gòu) 北京布瑞知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 秦衛(wèi)中
地址 215123江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號西北區(qū)20幢517-A室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種外延片承載裝置和化學氣相沉積設備，涉及氣相沉積領(lǐng)域。該外延片承載裝置包括位于襯底和加熱部件之間的石墨盤以及與石墨盤可拆卸連接的高度調(diào)整部件，其中，上述石墨盤用于承載襯底，上述高度調(diào)整部件用于調(diào)整襯底相對于加熱部件的放置角度。本實用新型實施例通過設置與石墨盤可拆卸連接的高度調(diào)整部件，實現(xiàn)了利用高度調(diào)整部件調(diào)整襯底相對于加熱部件的放置角度的目的，消除了襯底底面與加熱部件頂面之間的角度偏差，使襯底底面與加熱部件頂面平行，進而使襯底不同區(qū)域的受熱程度相同，提高了襯底不同區(qū)域溫度的均勻性，進而提高了襯底上所生長的外延片的質(zhì)量。