一種非數(shù)字光機正弦條紋結(jié)構(gòu)光高精度三維測量裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011533705.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112762859A | 公開(公告)日 | 2021-05-07 |
申請公布號 | CN112762859A | 申請公布日 | 2021-05-07 |
分類號 | G01B11/25(2006.01)I;G06K9/00(2006.01)I;G06T17/00(2006.01)I | 分類 | - |
發(fā)明人 | 游志勝;朱江平;程鵬;周佩;張自力 | 申請(專利權(quán))人 | 四川川大智勝軟件股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 四川力久律師事務(wù)所 | 代理人 | 韓洋 |
地址 | 610065四川省成都市一環(huán)路南一段24號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及光學三維成像領(lǐng)域,特別涉及非數(shù)字光機正弦條紋結(jié)構(gòu)光高精度三維測量裝置。結(jié)構(gòu)光場投影裝置包括N個結(jié)構(gòu)光投射模組、合光棱鏡和投影鏡組,結(jié)構(gòu)光投射模組按照預定時序依次開啟,生成N個正弦條紋結(jié)構(gòu)光場;合光棱鏡用于將N個正弦條紋結(jié)構(gòu)光場進行光路轉(zhuǎn)換輸出到投影鏡組;投影鏡組用于將N個正弦條紋結(jié)構(gòu)光場投射到同一待測目標;其中,N個正弦條紋結(jié)構(gòu)光場投射到同一待測目標時,具有相同的成像位置,并且時序上相鄰的正弦條紋結(jié)構(gòu)光場之間存在2π/N的空間相位間隔。采用本發(fā)明的結(jié)構(gòu)光場投影裝置和三維成像系統(tǒng),可高速高精度獲取人臉目標的三維數(shù)據(jù)。?? |
