射擊游戲中散射場景呈現方法、裝置、設備及介質
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011322677.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114522419A | 公開(公告)日 | 2022-05-24 |
申請公布號 | CN114522419A | 申請公布日 | 2022-05-24 |
分類號 | A63F13/52(2014.01)I;A63F13/837(2014.01)I | 分類 | 運動;游戲;娛樂活動; |
發(fā)明人 | 王志遠 | 申請(專利權)人 | 上海米哈游天命科技有限公司 |
代理機構 | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 201802上海市嘉定區(qū)真南路4268號2幢JT6894室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請公開了射擊游戲中散射場景呈現方法、裝置、設備及介質。該方法包括監(jiān)聽游戲角色在散射場景的當前幀中所處的當前游戲狀態(tài);根據所述當前游戲狀態(tài)及所述散射場景在上一幀具備的上一散射信息,確定所述散射場景在所述當前幀具備的當前散射信息;控制所述散射場景中的射擊準星以所述當前散射信息對應的瞄準范圍呈現。利用該方法,考慮了散射場景中當前幀的當前游戲狀態(tài)以及上一幀散射信息對當前幀下當前散射信息的影響,由此避免了現有技術中僅通過散射曲線進行散射信息確定時對射擊準星瞄準范圍呈現效果的影響,使得射擊準星的瞄準范圍能夠呈現平滑的變化趨勢,進而在保證不增加計算資源占用量的基礎上提高玩家的視覺體驗。 |
