一種連續(xù)真空鍍膜設(shè)備
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811541589.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN109440080A | 公開(公告)日 | 2019-03-08 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN109440080A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-03-08 |
分類號(hào) | C23C14/56;C23C14/02 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 喬曉東;楚殿軍;陳靜偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 嘉興浩宇等離子體科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州永航聯(lián)科專利代理有限公司 | 代理人 | 江程鵬 |
地址 | 314100 浙江省嘉興市嘉善縣羅星街道晉陽(yáng)東路568號(hào)5號(hào)樓5408室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,本發(fā)明公開了一種連續(xù)真空鍍膜設(shè)備,包括機(jī)架,所述機(jī)架處設(shè)置有用于對(duì)零件進(jìn)行鍍膜的鍍膜腔體,所述鍍膜腔體兩側(cè)分別設(shè)置有進(jìn)料腔體及出料腔體,所述鍍膜腔體內(nèi)設(shè)置有將零件排出鍍膜腔體的第四輸送帶,所述機(jī)架還設(shè)置有用于用于清洗零件的清洗機(jī)構(gòu)、用于烘干零件的烘干機(jī)構(gòu)、用于檢測(cè)零件鍍膜情況并排出零件的檢測(cè)出料機(jī)構(gòu),所述清洗機(jī)構(gòu)及所述烘干機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述進(jìn)料腔體,所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述出料腔體。本發(fā)明達(dá)到有效除去零件表面的污染物,提高零件鍍膜的合格率。 |
