一種提升電容容值精度的方法及系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910206109.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN110082383A 公開(kāi)(公告)日 2021-06-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN110082383A 申請(qǐng)公布日 2021-06-18
分類號(hào) G01N25/00;G01J5/00;G01B7/06;C23C16/52 分類 測(cè)量;測(cè)試;
發(fā)明人 林錦偉;林偉銘;鐘艾東;甘凱杰;翁佩雪;郭文海;鄧丹丹;趙玉會(huì) 申請(qǐng)(專利權(quán))人 福建省福聯(lián)集成電路有限公司
代理機(jī)構(gòu) 福州市景弘專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 林祥翔;徐劍兵
地址 351117 福建省莆田市涵江區(qū)江口鎮(zhèn)赤港涵新路3688號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)一種提升電容容值精度的方法及系統(tǒng),其中方法包括如下步驟:驅(qū)動(dòng)晶圓傳送模組傳送晶圓到晶圓預(yù)熱腔組;驅(qū)動(dòng)晶圓預(yù)熱腔組對(duì)晶圓進(jìn)行加熱;驅(qū)動(dòng)晶圓傳送模組傳送加熱后的晶圓到紅外成像模組;驅(qū)動(dòng)紅外成像模組拍攝晶圓表面的紅外照片;驅(qū)動(dòng)通信模組傳輸晶圓紅外照片到數(shù)據(jù)分析處理中心;通過(guò)紅外成像并計(jì)算出薄膜厚度,并自動(dòng)用于介電層沉積,從而可以實(shí)現(xiàn)沉積參數(shù)的自動(dòng)化調(diào)整,提高了電容容值精確度,節(jié)省了人工調(diào)整時(shí)間。