同時用于多臺MOCVD設(shè)備的氣源供給系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910572209.8 申請日 -
公開（公告）號 CN112144041A 公開（公告）日 2020-12-29
申請公布號 CN112144041A 申請公布日 2020-12-29
分類號 C23C16/455;C30B25/14 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 吳作貴;朱忻;顧曉嵐 申請（專利權(quán)）人 張家港恩達通訊科技有限公司
代理機構(gòu) 北京三聚陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 張韜
地址 215614 江蘇省蘇州市張家港市鳳凰鎮(zhèn)鳳凰科創(chuàng)園E棟,恩達通訊
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及金屬有機物化學(xué)氣相沉積設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種同時用于多臺MOCVD設(shè)備的氣源供給系統(tǒng)，旨在解決根據(jù)目標(biāo)產(chǎn)品的不同，同一設(shè)備上同種MO源需要多瓶，每瓶MO源則需要一臺電子恒溫器，且由于電子恒溫器價格昂貴，導(dǎo)致了MOCVD設(shè)備制造成本增加，其技術(shù)要點在于若干供載氣及摻雜源輸入并輸出調(diào)整所得氣體的流通管路、至少兩臺與所述流通管路均連通的MOCVD設(shè)備，以及一控制子系統(tǒng)；所述控制子系統(tǒng)包括：設(shè)置于所述流通管路上、控制所述流通管路流通狀態(tài)的執(zhí)行件；與所述執(zhí)行件連接、控制所述執(zhí)行件動作的控制端。本發(fā)明根據(jù)不同設(shè)備不同工藝需求摩爾流量的不同采用了不同量程的流量計設(shè)計，實現(xiàn)了每臺設(shè)備對摻雜源注入摩爾流量的精確控制。