一種鋁氮鈧合金靶材的制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811144407.6 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN109267020B 公開(kāi)（公告）日 2019-01-25
申請(qǐng)公布號(hào) CN109267020B 申請(qǐng)公布日 2019-01-25
分類(lèi)號(hào) C23C14/34(2006.01)I; 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 丁照崇;李勇軍;何金江;王興權(quán);雷繼鋒;龐欣;賀昕;劉曉 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 有研新材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京眾合誠(chéng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 陳波
地址 100088北京市海淀區(qū)北三環(huán)中路43號(hào)院有研新材料股份有限公司
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了屬于磁控濺射靶材制備技術(shù)領(lǐng)域的一種鋁氮鈧合金靶材的制備方法和應(yīng)用。該方法以AlN粉、Sc粉為原料，經(jīng)混合、壓力燒結(jié)成型、機(jī)加工得到鋁氮鈧合金靶材，所得鋁氮鈧合金靶材的相對(duì)密度大于97％，能夠應(yīng)用于濺射沉積氮化物膜，濺射鍍膜過(guò)程中，無(wú)需通入反應(yīng)氣體氮?dú)饧茨芊€(wěn)定成膜。??