一種摻氮的鋁鈧合金靶材及其制造方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811048555.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN109161858B 公開(kāi)（公告）日 2020-08-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN109161858B 申請(qǐng)公布日 2020-08-07
分類號(hào) C23C14/34;C23C14/35;C23C14/14 分類 -
發(fā)明人 丁照崇;王興權(quán);張曉娜;何金江;李勇軍;雷繼鋒;龐欣;賀昕 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 有研新材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京眾合誠(chéng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 朱琨
地址 100088 北京市海淀區(qū)北三環(huán)中路43號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了屬于磁控濺射靶材制造技術(shù)領(lǐng)域的一種摻氮的鋁鈧合金靶材及其制造方法。鋁氮鈧合金靶材化學(xué)成分為(AlxSc(1?x))(1?y)(AlN)y，其中以AlN形式對(duì)鋁鈧合金進(jìn)行摻氮，摻氮的鋁鈧合金靶材以AlSc合金粉、AlN粉為原料，通過(guò)壓力燒結(jié)工藝成型后由機(jī)加工制造出摻氮的鋁鈧合金單體成品靶材，或與背板焊接為復(fù)合成品靶材。采用該合金靶材濺射沉積氮化物膜，可降低膜層內(nèi)氮原子缺失，確保薄膜合金成分比例。