一種鍺砷硒碲合金靶材及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910526762.8 申請日 -
公開（公告）號 CN110396666A 公開（公告）日 2019-11-01
申請公布號 CN110396666A 申請公布日 2019-11-01
分類號 C23C14/34（2006.01）I; C23C14/14（2006.01）I; C22C30/00（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 石紅春; 劉曉華; 朱晨陽; 何金江; 楊海; 雷繼鋒 申請（專利權(quán)）人 有研新材料股份有限公司
代理機構(gòu) 北京眾合誠成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 陳波
地址 100088 北京市海淀區(qū)北三環(huán)中路43號院有研新材料股份有限公司
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種低氧大尺寸鍺砷硒碲合金靶材及其制備方法，所述合金包括以下各組分及其原子百分比：鍺15～25％；砷20～40％；硒30～50％；碲3～10％，上述各原料混合后原子百分比之和為100％；所述制備方法包括將靶材原料蒸餾提純后按上述配比混合放入石英管中，真空熔封后再加入10ppm的高純GeCl4，再次熔封。二次熔封后的石英管放入搖擺爐中熔制、退火得到小尺寸鑄錠，經(jīng)熱等靜壓處理將小尺寸鑄錠擴散連接制備成大尺寸合金靶坯，靶坯經(jīng)機械加工成大尺寸鍺砷硒碲合金靶材。此方法制備的合金靶材規(guī)格為Dia(150～450mm)×Th(5～30mm)，雜質(zhì)氧含量小于100ppm，相對密度大于99％。