真空釬焊爐加熱室

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201110214217.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN102328144B 公開（公告）日 2013-06-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN102328144B 申請(qǐng)公布日 2013-06-12
分類號(hào) B23K3/04(2006.01)I 分類 機(jī)床；不包含在其他類目中的金屬加工;
發(fā)明人 茆林鳳 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 無錫四方集團(tuán)真空爐業(yè)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所 代理人 曹祖良
地址 214092 江蘇省無錫市濱湖區(qū)馬山?？德?8號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種真空釬焊爐加熱室，包括中空的臥式筒體及固定在筒體兩端的端蓋，筒體框架的內(nèi)部固定有一圈筒體反射屏，筒體反射屏的內(nèi)部設(shè)置有筒體加熱組件，筒體的兩端分別固定有一圈筒體封嚴(yán)帶；端蓋框架的內(nèi)壁上依次固定有端蓋反射屏及端蓋加熱組件，端蓋與筒體的接合處固定有一圏端蓋封嚴(yán)帶；筒體反射屏及端蓋反射屏分別由多層不銹鋼制成，筒體加熱組件及端蓋加熱組件的加熱元件分別采用寬帶狀鎳鉻帶盤繞而成。本發(fā)明的筒體反射屏及端蓋反射屏分別由多層不銹鋼制成，有利于減少熱量的向外擴(kuò)散，爐溫均勻性好；筒體加熱組件及端蓋加熱組件的加熱元件分別采用寬帶狀鎳鉻帶盤繞而成，加熱均勻，熱損失小。