一種真空鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201822177296.0 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN210012892U 公開（公告）日 2020-02-04
申請公布號(hào) CN210012892U 申請公布日 2020-02-04
分類號(hào) C23C14/35 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 申屠江民;祝宇;龔陽 申請（專利權(quán)）人 浙江萊寶科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 321016 浙江省金華市婺城區(qū)涌雪街333號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種膜層厚度均勻的真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜的腔體、磁鋼、靶材、靶罩與基片，所述腔體構(gòu)造出一立方體空間，所述靶材、靶罩與基片均設(shè)置于所述立方體空間內(nèi)，所述磁鋼設(shè)置于所述腔體的外壁上，所述靶材設(shè)置于所述腔體的內(nèi)壁上，所述靶罩設(shè)置于所靶材上方和側(cè)面，形成一門型，將所述靶材覆蓋于所述靶罩內(nèi)，同時(shí)在靶罩的上方設(shè)有一開口，所述開口與靶材在腔體上的投影相一致，所述基片設(shè)置于所述靶材上方50?100mm的范圍內(nèi)。在靶罩上設(shè)置有擋塊，所述擋塊外部連接有一旋鈕，所述旋鈕上設(shè)有一把手，所述把手位于真空鍍膜腔體外部。在真空鍍膜工作條件下，可以靈活調(diào)整真空鍍膜裝置內(nèi)部擋塊結(jié)構(gòu)，進(jìn)而滿足膜層均勻性要求。