一種高均勻鈦金屬鑄錠熔煉方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110132733.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112501449A | 公開（公告）日 | 2021-03-16 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112501449A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-16 |
| 分類號(hào) | B22D7/00(2006.01)I;C22C1/03(2006.01)I;C22B9/20(2006.01)I;C22C14/00(2006.01)I | 分類 | 冶金；黑色或有色金屬合金；合金或有色金屬的處理; |
| 發(fā)明人 | 楊勝;周慧;周科朝;張曉泳;張慧杰;張宏嶺;向午淵;歐陽濤;肖芬 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 湖南湘投金天科技集團(tuán)有限責(zé)任公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 長(zhǎng)沙七源專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 周曉艷;張勇 |
| 地址 | 410205湖南省長(zhǎng)沙市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)麓谷工業(yè)園林語路116號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開一種高均勻鈦金屬鑄錠熔煉方法，包括制作扇形電極塊、制作自耗電極、第一次真空自耗熔煉、第二次真空自耗熔煉和第三次真空自耗熔煉等，本發(fā)明在真空自耗電弧熔煉爐內(nèi)進(jìn)行，通過匹配熔煉過程的熔煉速度和熔池深度來實(shí)現(xiàn)控制熔池的過冷度方向，從而改變柱狀晶的生長(zhǎng)方向，使鑄錠整體獲得沿軸向定向生長(zhǎng)的柱狀晶組織，結(jié)合相鄰兩次真空自耗熔煉中調(diào)換鑄錠頭部和底部的熔煉方式，能有效抑制鈦金屬中偏析元素Fe、Cr等擴(kuò)散導(dǎo)致的成分偏析，同時(shí)可消除鑄錠中柱狀晶區(qū)與等軸晶區(qū)的組織差異，利于提高鍛造組織均勻性。?? |
