一種雙模組缸套標(biāo)刻設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121019152.8 申請日 -
公開（公告）號 CN214684775U 公開（公告）日 2021-11-12
申請公布號 CN214684775U 申請公布日 2021-11-12
分類號 B23K26/362（2014.01）I;B23K26/70（2014.01）I;B44B5/00（2006.01）I;B44B5/02（2006.01）I 分類 機床；不包含在其他類目中的金屬加工;
發(fā)明人 張競;劉鼎;張書毓;湯曉輝 申請（專利權(quán)）人 河南省中原華工激光工程有限公司
代理機構(gòu) 焦作市科彤知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 楊明環(huán)
地址 454750河南省焦作市孟州市產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)淮河大道69號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型屬于缸套標(biāo)刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種雙模組缸套標(biāo)刻設(shè)備，包括操作臺、缸套固定旋轉(zhuǎn)臺、激光標(biāo)刻系統(tǒng)和電磁點陣標(biāo)刻系統(tǒng)，激光標(biāo)刻系統(tǒng)包括激光標(biāo)刻頭和激光標(biāo)刻頭調(diào)節(jié)組件，激光標(biāo)刻頭設(shè)于激光標(biāo)刻頭調(diào)節(jié)組件上，且激光標(biāo)刻頭朝向缸套的外側(cè)壁，激光標(biāo)刻頭調(diào)節(jié)組件可調(diào)節(jié)激光標(biāo)刻頭的豎直高度及激光標(biāo)刻頭與缸套外側(cè)壁的距離，電磁點陣標(biāo)刻系統(tǒng)包括電磁點陣標(biāo)刻頭和電磁點陣標(biāo)刻頭調(diào)節(jié)組件，電磁點陣標(biāo)刻頭設(shè)于電磁點陣標(biāo)刻頭調(diào)節(jié)組件上，且電磁點陣標(biāo)刻頭朝向缸套的上端面，電磁點陣標(biāo)刻頭調(diào)節(jié)組件可調(diào)節(jié)電磁點陣標(biāo)刻頭與缸套上端面的距離及電磁點陣標(biāo)刻頭的水平位置。該設(shè)備能同時滿足不同的標(biāo)刻需求。