一種雙模組缸套標(biāo)刻設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202121019152.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN214684775U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-11-12 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN214684775U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-11-12 |
| 分類號(hào) | B23K26/362（2014.01）I;B23K26/70（2014.01）I;B44B5/00（2006.01）I;B44B5/02（2006.01）I | 分類 | 機(jī)床；不包含在其他類目中的金屬加工; |
| 發(fā)明人 | 張競(jìng);劉鼎;張書(shū)毓;湯曉輝 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 河南省中原華工激光工程有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 焦作市科彤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 楊明環(huán) |
| 地址 | 454750河南省焦作市孟州市產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)淮河大道69號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型屬于缸套標(biāo)刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種雙模組缸套標(biāo)刻設(shè)備，包括操作臺(tái)、缸套固定旋轉(zhuǎn)臺(tái)、激光標(biāo)刻系統(tǒng)和電磁點(diǎn)陣標(biāo)刻系統(tǒng)，激光標(biāo)刻系統(tǒng)包括激光標(biāo)刻頭和激光標(biāo)刻頭調(diào)節(jié)組件，激光標(biāo)刻頭設(shè)于激光標(biāo)刻頭調(diào)節(jié)組件上，且激光標(biāo)刻頭朝向缸套的外側(cè)壁，激光標(biāo)刻頭調(diào)節(jié)組件可調(diào)節(jié)激光標(biāo)刻頭的豎直高度及激光標(biāo)刻頭與缸套外側(cè)壁的距離，電磁點(diǎn)陣標(biāo)刻系統(tǒng)包括電磁點(diǎn)陣標(biāo)刻頭和電磁點(diǎn)陣標(biāo)刻頭調(diào)節(jié)組件，電磁點(diǎn)陣標(biāo)刻頭設(shè)于電磁點(diǎn)陣標(biāo)刻頭調(diào)節(jié)組件上，且電磁點(diǎn)陣標(biāo)刻頭朝向缸套的上端面，電磁點(diǎn)陣標(biāo)刻頭調(diào)節(jié)組件可調(diào)節(jié)電磁點(diǎn)陣標(biāo)刻頭與缸套上端面的距離及電磁點(diǎn)陣標(biāo)刻頭的水平位置。該設(shè)備能同時(shí)滿足不同的標(biāo)刻需求。 |
