多晶硅電阻及其制造方法、逐次逼近型模數(shù)轉(zhuǎn)換器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110677950.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113437217A | 公開(公告)日 | 2021-09-24 |
申請公布號 | CN113437217A | 申請公布日 | 2021-09-24 |
分類號 | H01L49/02(2006.01)I;H03M1/46(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 胡蓉彬 | 申請(專利權(quán))人 | 重慶吉芯科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 李鐵 |
地址 | 401334重慶市沙坪壩區(qū)鳳凰鎮(zhèn)皂角樹村臨謝家院子組2號2-2室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種多晶硅電阻及其制造方法、逐次逼近型模數(shù)轉(zhuǎn)換器,在形成多晶硅電阻時(shí),利用絕緣體上硅工藝的特點(diǎn),把絕緣體上硅襯底的上層硅襯底層劃分成一個(gè)個(gè)絕緣隔離的襯底隔離區(qū),并在上層硅襯底層上依次形成氧化硅層和多晶硅電阻層,且多晶硅電阻層被劃分成若干個(gè)多晶硅電阻塊,若干個(gè)多晶硅電阻塊被一一對應(yīng)地置于若干個(gè)襯底隔離區(qū)上,使得襯底隔離區(qū)的電位緊緊跟隨多晶硅電阻塊的電位,使得多晶硅電阻塊與下面的襯底隔離區(qū)無法形成較強(qiáng)的電場,消除了多晶硅電阻上的載流子聚邊效應(yīng);將該多晶硅電阻應(yīng)用到逐次逼近型模數(shù)轉(zhuǎn)換器的前端電阻分壓網(wǎng)絡(luò)上時(shí),可有效提高電阻分壓網(wǎng)絡(luò)的線性度,降低了逐次逼近型模數(shù)轉(zhuǎn)換器的積分非線性度。 |
