集成激光器件及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110302598.X | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN113113838A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-07-13 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113113838A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-13 |
分類(lèi)號(hào) | H01S5/024(2006.01)I;H01S5/0234(2021.01)I;H01S5/12(2021.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李軍;石文虎;李哲;張?zhí)烀?胡云;周秋桂 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 武漢華工正源光子技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京匯澤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 胡建文 |
地址 | 430223湖北省武漢市東湖高新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)華中科技大學(xué)科技園正源光子產(chǎn)業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種集成激光器件,包括由下至上依次堆疊布設(shè)的硅支撐片層、硅光芯片層以及半導(dǎo)體激光器層,硅光芯片層集成有用于將半導(dǎo)體激光器層產(chǎn)生的熱量散出的散熱器,散熱器貼合硅支撐片層設(shè)置。本發(fā)明的一種集成激光器件的制備方法,包括S1,預(yù)先制作硅光芯片層,并在硅光芯片層中集成散熱器;S2,制作好硅光芯片層后,將硅光芯片層翻轉(zhuǎn)倒過(guò)來(lái)并結(jié)合至硅支撐片層上;S3,去掉硅光芯片層的硅襯底,留下氧化硅層在頂部,將半導(dǎo)體激光器層堆疊在硅光芯片層上;S4,對(duì)半導(dǎo)體激光器層進(jìn)行后續(xù)加工以完成集成激光器件的制備。本發(fā)明通過(guò)集成散熱器,可以加強(qiáng)激光器散熱能力,避免了現(xiàn)有技術(shù)中的溫度限制,提高激光性能,有望提升高溫下的總輸出功率。 |
