一種金屬離子源發(fā)射裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010363614.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111668080B | 公開(公告)日 | 2021-06-08 |
申請公布號 | CN111668080B | 申請公布日 | 2021-06-08 |
分類號 | H01J37/08 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 廖斌;歐陽瀟;王國梁;歐陽曉平;羅軍;龐盼;陳琳;張旭;吳先映;英敏菊 | 申請(專利權)人 | 廣東省廣新離子束科技有限公司 |
代理機構 | 北京高沃律師事務所 | 代理人 | 張琳麗 |
地址 | 100875 北京市海淀區(qū)新街口外大街19號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開一種金屬離子源發(fā)射裝置,包括密封連接的陶瓷筒、引出電極室和三個并排設置的陰極,觸發(fā)電極固定在陶瓷絕緣電極上,陰極靶材固定在間接冷卻通道上,限位電極固定在固定電極上,固定電極通過螺扣將間接冷卻通道固定在陰極冷卻管上,陰極冷卻管固定在陰極法蘭上,觸發(fā)接線柱通過導線和觸發(fā)電極相連;引出電極室中位于陰極正下方設置有引出電極和加速電極,加速電極和引出電極上均設置有引出縫隙。該金屬離子源發(fā)射裝置,能夠在一個陽極的情況下,同時讓3個陰極進行工作,增大了離子源的照射面積,提高了工作效率、能源利用率;發(fā)射源更加緊湊,處理面積更大。 |
