一種金屬離子源發(fā)射裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010363614.1 申請日 -
公開（公告）號 CN111668080B 公開（公告）日 2021-06-08
申請公布號 CN111668080B 申請公布日 2021-06-08
分類號 H01J37/08 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 廖斌;歐陽瀟;王國梁;歐陽曉平;羅軍;龐盼;陳琳;張旭;吳先映;英敏菊 申請（專利權）人 廣東省廣新離子束科技有限公司
代理機構 北京高沃律師事務所 代理人 張琳麗
地址 100875 北京市海淀區(qū)新街口外大街19號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種金屬離子源發(fā)射裝置，包括密封連接的陶瓷筒、引出電極室和三個并排設置的陰極，觸發(fā)電極固定在陶瓷絕緣電極上，陰極靶材固定在間接冷卻通道上，限位電極固定在固定電極上，固定電極通過螺扣將間接冷卻通道固定在陰極冷卻管上，陰極冷卻管固定在陰極法蘭上，觸發(fā)接線柱通過導線和觸發(fā)電極相連；引出電極室中位于陰極正下方設置有引出電極和加速電極，加速電極和引出電極上均設置有引出縫隙。該金屬離子源發(fā)射裝置，能夠在一個陽極的情況下，同時讓3個陰極進行工作，增大了離子源的照射面積，提高了工作效率、能源利用率；發(fā)射源更加緊湊，處理面積更大。