一種具有雙層屏蔽罩的陰極弧頭
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011363720.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112501572A | 公開（公告）日 | 2021-03-16 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112501572A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-16 |
| 分類號(hào) | C23C14/48(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 廖斌;龐盼;王國梁;羅軍;陳琳 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廣東省廣新離子束科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州圣理華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 董覺非;張凱 |
| 地址 | 510663廣東省廣州市黃埔區(qū)光譜東路179號(hào)百事高智慧園C棟101 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種具有雙層屏蔽罩的陰極弧頭，涉及離子束產(chǎn)生裝置領(lǐng)域。該方案包括固定法蘭盤、陰極靶材、觸發(fā)電極、屏蔽系統(tǒng)、輔助陽極板，屏蔽系統(tǒng)包括第一屏蔽罩以及第二屏蔽罩，第一屏蔽罩與第二屏蔽罩均與陰極靶材同軸設(shè)置，且第一屏蔽罩與所述第二屏蔽罩均套于陰極靶材外并與陰極靶材之間保持間距，第一屏蔽罩由導(dǎo)磁材料制成，第二屏蔽罩由非導(dǎo)磁材料制成。設(shè)置雙層屏蔽罩，對(duì)陰極靶材上的弧斑點(diǎn)形成更好的約束，使陰極靶材表面均勻燒蝕，提高陰極靶材的利用率，降低陰極靶材更換的頻率，減少對(duì)生產(chǎn)的影響。?? |
