一種超薄聚合物的表面處理方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011090039.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112210760B | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-05-07 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112210760B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-07 |
| 分類號(hào) | C23C14/02(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/20(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 廖斌;陳琳;王國(guó)梁;羅軍;龐盼 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廣東省廣新離子束科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州圣理華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 胡小英;張凱 |
| 地址 | 510663廣東省廣州市黃埔區(qū)光譜東路179號(hào)百事高智慧園C棟101 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種超薄聚合物的表面處理方法，在真空室內(nèi)進(jìn)行，包括將聚合物薄膜固定在放卷軸上，在導(dǎo)向輥的作用下聚合物薄膜運(yùn)動(dòng)到冷輥處進(jìn)行離子束表面處理，表面處理完后在導(dǎo)向輥的作用下繼續(xù)運(yùn)動(dòng)到收卷軸上；所述聚合物薄膜厚度低于5微米；所述離子束表面處理的裝置包括離子源系統(tǒng)、電弧系統(tǒng)以及磁控系統(tǒng)，表面處理時(shí)聚合物薄膜的溫度不高于50℃，處理順序依次為氣體離子源，電弧和磁控濺射。本發(fā)明工藝可在任何超薄聚合物表面處理上推廣，特別是不耐溫的超薄聚合物的表面覆金屬膜層，其設(shè)備使用壽命高，成本低，能實(shí)現(xiàn)大規(guī)模的卷對(duì)卷生產(chǎn)。而且能同時(shí)兼顧聚合物表面電阻率、表面粗糙度、吸水度和抗拉伸性能。?? |
