一種離子束沉積設(shè)備的冷卻輥

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011358107.5 申請日 -
公開（公告）號 CN112481583A 公開（公告）日 2021-03-12
申請公布號 CN112481583A 申請公布日 2021-03-12
分類號 C23C14/48(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 廖斌;龐盼;王國梁;羅軍;陳琳 申請（專利權(quán)）人 廣東省廣新離子束科技有限公司
代理機構(gòu) 廣州圣理華知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 董覺非;張凱
地址 510663廣東省廣州市黃埔區(qū)光譜東路179號百事高智慧園C棟101
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種離子束沉積設(shè)備的冷卻輥，涉及離子束鍍膜領(lǐng)域。該方案包括中空的輥體，所述輥體由外至內(nèi)依次包括表面導(dǎo)電層、絕緣導(dǎo)熱層以及冷卻腔，所述表面導(dǎo)電層攜帶負電荷，所述冷卻腔內(nèi)循環(huán)通入、排出冷卻流體，或者在所述冷卻腔內(nèi)設(shè)置固體冷卻介質(zhì)，所述輥體還包括支撐軸部，所述支撐軸部與所述絕緣導(dǎo)熱層固定。在冷輥表面均勻施加電場，改變系統(tǒng)的電場分布，提高鍍膜質(zhì)量，通過絕緣導(dǎo)熱層將冷卻腔與表面導(dǎo)電層隔離開，支撐軸部與絕緣導(dǎo)熱層固定，將表面導(dǎo)電層與冷卻腔、支撐軸隔離，能對薄膜進行冷卻，并降低觸電的風(fēng)險，消除安全隱患。??