一種聚酰亞胺薄膜及其制備方法與應用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011567117.X 申請日 -
公開（公告）號 CN114685786A 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN114685786A 申請公布日 2022-07-01
分類號 C08G73/10（2006.01）I;C08J5/18（2006.01）I;C08L79/08（2006.01）I;H01L51/00（2006.01）I;H01L51/52（2006.01）I 分類 有機高分子化合物；其制備或化學加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 范琳;王暢鷗;翟磊;何民輝;莫松 申請（專利權(quán)）人 中國科學院化學研究所
代理機構(gòu) 北京天達知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（普通合伙） 代理人 -
地址 100190北京市海淀區(qū)中關(guān)村北1街中國科學院化學研究所
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種聚酰亞胺薄膜及其制備方法與應用，屬于聚酰亞胺技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有技術(shù)中聚酰亞胺薄膜在高溫下透明性變差、濁度與黃度變大的問題。本發(fā)明聚酰亞胺薄膜的制備原料包括：二胺、二酐和端基保護劑；端基保護劑與二胺單體的摩爾比為（0.02～0.24）:1；二胺單體與二酐單體的摩爾比為1:（0.90～0.99）；所述聚酰亞胺的分子主鏈中含有端基保護基團。本發(fā)明提供的聚酰亞胺薄膜制備方法實現(xiàn)了對分子鏈中活性端基的有效保護，并使薄膜的聚集態(tài)結(jié)構(gòu)更趨穩(wěn)定，有效改善了聚酰亞胺薄膜在高溫環(huán)境下的光學穩(wěn)定性，在電子、微電子、光學顯示、光通信等領(lǐng)域具有重要應用。