結構光三維測量方法及系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710581178.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN107421467B | 公開(公告)日 | 2019-09-20 |
申請公布號 | CN107421467B | 申請公布日 | 2019-09-20 |
分類號 | G01B11/25(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 胡學磊; 李鵬杰; 鄭眾喜 | 申請(專利權)人 | 蘇州優(yōu)納科技有限公司 |
代理機構 | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 | 代理人 | 吳黎 |
地址 | 215163 江蘇省蘇州市新區(qū)科技城科靈路78號2號軟件園11號樓2層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及光學三維傳感和測量技術領域,公開的一種結構光三維測量方法包括以下步驟:將正弦周期條紋的周期序號按照編碼方式F編碼為m位二進制數(shù);控制投影單元投影m×n幅具有編碼后的周期序號的正弦周期條紋結構光至被測物體,每組相移中的相同條紋周期對應同一個編碼位值,編碼位值為0或1,分別對應n步相移的條紋相位的單調遞增或單調遞減;計算每個投影成像點的m個截斷相位值;獲取每個投影成像點的m個編碼位值,校正反折的截斷相位值;計算校正后的m個截斷相位值的平均值;根據(jù)編碼方式F的反運算F?1獲得正弦周期條紋的周期序號;計算得到完整相位。本發(fā)明簡化了結構光的投影流程,提高了測量精度,并且降低了計算時間。 |
